2018年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢(shì)分析 ArF光刻膠仍將是主流【組圖】

半導(dǎo)體光刻膠種類(lèi)繁多，已應(yīng)用產(chǎn)品主要可分為四大類(lèi)

光刻膠被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作，是微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性材料。按應(yīng)用領(lǐng)域，光刻膠可以分為半導(dǎo)體光刻膠、PCB光刻膠、LCD光刻膠等。

按顯示效果，又可將光刻膠分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。正性光刻膠顯影時(shí)未曝光部分溶解于液，形成的圖與掩膜版相反。負(fù)性光刻膠顯影時(shí)曝光部分溶解于液，形成的圖與掩膜版相同。由于負(fù)性光刻膠顯影時(shí)易變形和膨脹，分辨率一般只能達(dá)到2微米，所以正性光刻膠的應(yīng)用更為普及。

半導(dǎo)體光刻膠種類(lèi)繁多，從目前市場(chǎng)上已實(shí)際應(yīng)用的主要半導(dǎo)體光刻膠來(lái)看，其按照曝光波長(zhǎng)，可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）和ArF（193nm）等4個(gè)大類(lèi)。其中，ArF光刻膠為目前分辨率最高的半導(dǎo)體光刻膠。g線和i線光刻膠為目前市場(chǎng)上使用量最大的光刻膠。

全球半導(dǎo)體光刻膠占總體的24.1%，中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠僅占總體的1.6%

從全球產(chǎn)品市場(chǎng)來(lái)看，LCD光刻膠占比最高，為26.6%。PCB光刻膠占比位居第二，為24.5%。半導(dǎo)體光刻膠占比位居第三，為24.1%。總體看來(lái)，半導(dǎo)體光刻膠、PCB光刻膠、LCD光刻膠三類(lèi)占比較為均衡。

從中國(guó)產(chǎn)品市場(chǎng)來(lái)看，PCB光刻膠市場(chǎng)份額占比最多，高達(dá)94.4%。LCD光刻膠市場(chǎng)份額占比第二，為2.7%。半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)份額占比位居第三，僅為1.6%。總體看來(lái)，中國(guó)市場(chǎng)PCB光刻膠占據(jù)大部分市場(chǎng)份額，LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠所占份額非常低。

中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模占全球比重最大，約為32%

2017年，從全球區(qū)域市場(chǎng)來(lái)看，中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模占全球比重最大，達(dá)到32%。其次是美洲地區(qū)，其光刻膠市場(chǎng)規(guī)模占全球比重為21%。亞太地區(qū)緊跟其后，光刻膠市場(chǎng)規(guī)模占全球比重為20%。歐洲、日本地區(qū)所占比重較低，大約均為9%。

全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將不斷擴(kuò)大，ArF光刻膠仍將是主流

2017年，全球半導(dǎo)體光刻膠銷(xiāo)售額達(dá)到12.05億美元的市場(chǎng)規(guī)模。從全球半導(dǎo)體光刻膠分類(lèi)市場(chǎng)份額占比來(lái)看，g/i線光刻膠市場(chǎng)份額占比為24.0%，KrF光刻膠市場(chǎng)份額占比為22.0%，ArF/液浸ArF光刻膠市場(chǎng)份額占比為41.0%。

未來(lái)，隨著功率半導(dǎo)、傳感器、LED市場(chǎng)的持續(xù)擴(kuò)大，i線光刻膠市場(chǎng)將保持持續(xù)增長(zhǎng)。隨著精細(xì)化需求增加，使用i線光刻膠的應(yīng)用將被KrF光刻膠替代，KrF光刻膠市場(chǎng)需求將不斷增加。ArF光刻膠對(duì)應(yīng)IC制程節(jié)點(diǎn)最為先進(jìn)，在7nm制程的EUV技術(shù)成熟之前，ArF光刻膠仍將是主流，隨著雙/多重曝光技術(shù)的使用，光刻膠的使用次數(shù)增加，ArF光刻膠的市場(chǎng)需求將加速擴(kuò)大。

以上數(shù)據(jù)來(lái)源參考前瞻產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國(guó)信息化學(xué)品行業(yè)產(chǎn)銷(xiāo)需求與投資預(yù)測(cè)分析報(bào)告》。

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