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邀請演講離子注入機的工作流程可以分為以下六個步驟：原材料在離子源部分產生帶正電的雜質離子；雜質離子由負性引出電極析出；離子群在質量分析儀中的磁場進行篩選，選出后續注入工藝所需的摻雜離子束流；摻雜離子束在電場中進行加速，使之具備足夠的動能注入到硅片的晶格結構中；摻雜離子束流掃描整個硅片，使硅片表面得到均勻摻雜；熱退火過程修復晶格，激活晶格結構中的雜質離子。
目前，全球離子注入機市場規模為10億美元左右，從全球競爭格局上看，應用材料長期以來占據了70%以上的市場，除此之外，美國的亞舍立科技發展迅猛，市場分額也在不斷增加。
圖表2:全球離子注入機市場格局
資料來源：前瞻產業研究院整理
按照設備所使用的離子能量和離子束電流大小可將離子注入機可分為高能量、高電流、中低電流三種。高能量注入機的離子束具有較高能量，一般可達到500keV以上，但摻雜濃度較低，主要用于材料襯底的深阱摻雜。高電流注入機能獲得較大的離子束電流，該設備摻雜濃度大，但由于離子能量較低，因此其注入深度較淺，該設備主要用于器件的源漏區摻雜和LDD區摻雜。中低電流注入機應用比較廣泛，該設備的離子能量和束流大小分別遠小于高能量注入機和高電流注入機，被廣泛應用于除深井摻雜和源漏摻雜以外幾乎所有的離子摻雜工藝。目前，低能大束流占有離子注入機市場的55%。從大束流離子注入機整體格局看，主要由三家龍頭企業掌控。應用材料收購Varian公司成為老大，占有40%的市場份額；其次是Axcelis，占有32%的市場份額；第三家是AIBT，占有25%的市場份額，前三家企業包攬了97%以上的市場份額，行業高度集中。
圖表2:低能大束流離子注入機市場分額
資料來源：前瞻產業研究院整理
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